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타이완 - 15페이지

ACT NE89 ACT® NE-89 에칭 잔여물 제거제는 에칭 잔여물을 제거하고 오염된 산화물 표면을 제어된 방식으로 에칭할 수 있도록 특별히 제조된 불소 함유 화학 물질입니다. 이 제품은 single wafer tool 공정을 위해 특별히 설계되었습니다.

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ACT XT-1100 ACT XT-1100 에칭 잔여물 제거제 및 포지티브 감광액 스트리퍼는 유기 및 고도로 산화된 에칭 잔여물을 제거할 수 있도록 제조된 불소 함유 화학 물질입니다. ACT XT-1100은 낮은 산화물 및 금속 에칭 속도로 인해 vias, 금속 라인 및 트렌치의 임계 치수를 최소한으로 변경하여 에칭 잔여물 및 포지티브 감광액을 빠르고 효과적으로...

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ACT 930 ACT® 930 에칭 잔류물 제거제 및 포지티브 감광액은 알루미늄에 사용할 수 있는 low-hydroxylamine(HA) 기반 제품입니다. 이 제품은 비용이 낮고 에칭 잔류물을 제거하는 데 매우 효과적입니다. 이 제품은 전 세계 반도체 업계에서 주로 채택하는 제품입니다.

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ACT 935UP ACT® 935 UP 에칭 잔여물 제거제 및 포지티브 감광액 제거제는 매우 효과적인 Hydroxylamine(HA) 함유 에칭 잔여물 및 포지티브 레지스트 스트리퍼입니다.
이 제품은 반도체 산업 전반에 걸쳐 광범위한 응용 분야에서 사용하는 제품입니다.

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ACT 940 ACT® 940 은 에칭 잔여물 제거제 및 포지티브 감광액 제거제이며 알루미늄 세정을 위해 사용할 수 있는 매우 효과적인 hydroxylamine(HA) 기반 제품입니다. 이 제품은 노출된 알루미늄, 티타늄 및 텅스텐을 보호하면서 에칭 잔류물을 제거하는 데 매우 효과적입니다. 이 제품은 전 세계 반도체 공장에서 널리 채택하는 제품입니다.

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ACT 970 ACT® 970 에칭 잔여물 제거제 및 포지티브 감광액 스트리퍼는 알루미늄 및 구리 애플리케이션에 사용할 수 있는 매우 효과적인 아민 기반 제품입니다.

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ACT 970T ACT® 970T는 에칭 잔류물 제거제 및 포지티브 감광액 제거용 스트리퍼이며 노출된 구리를 보호하면서 내화성 에칭 잔류물을 제거하는 데 효과적입니다 이 제품은 구리 부식이 우려되는 기판에 사용하기 위해 특별히 설계되었습니다.

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ACT 412 ACT® 412 포지티브 감광액 스트리퍼는 그룹 III-V 화합물 및 금속 합금 회로기판에서 포지티브 감광액을 효과적으로 제거하기 위해 특별히 제조되었습니다.

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ACT 690S ACT® 690S 에칭 잔여물 제거제 및 포지티브 감광액 스트리퍼는 엄격하게 처리된 감광액 막 및 에칭 잔여물을 제거하기 위한 solvent-based 제품입니다.

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ACT 690SX ACT® 690SX는 부식에 민감한 금속 및 합금에서 지나치게 처리된 감광액 필름 및 에칭 잔여물을 제거하는 데 매우 효과적인 유기 용제의 혼합물입니다.

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